隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步，工農(nóng)業(yè)生產(chǎn)和國(guó)防醫(yī)學(xué)業(yè)事業(yè)的發(fā)展，氫的應(yīng)用范圍，日益擴(kuò)大，用量亦在迅速增加。
在一些電子材料的生長(zhǎng)與襯底的制備、氧化工藝、外延工藝中以及化學(xué)氣相淀積(CVD)技術(shù)中，均要采用氫氣作為反應(yīng)氣、還原氣或保護(hù)氣。半導(dǎo)體集成電路生產(chǎn)對(duì)氣體純度要求*，比如氧雜質(zhì)的允許濃度為10-12等。微量雜質(zhì)的“摻入”，將會(huì)改變半導(dǎo)體的表面特性，甚至使產(chǎn)品成品率降低或造成廢品。
在制造非晶體硅太陽(yáng)能電池中，也需要用到純度很高的氫氣。非晶硅薄膜半導(dǎo)體是上近十年來(lái)研制成功的新材料，在太陽(yáng)能轉(zhuǎn)換和信息技術(shù)等方面已展示出了誘人的應(yīng)用前景。
光導(dǎo)纖維的應(yīng)用和開發(fā)已經(jīng)規(guī)模使用，石英玻璃纖維是光導(dǎo)纖維的主要類型，在光纖預(yù)制棒制造過(guò)程中，需要采用氫氧焰加熱，經(jīng)數(shù)十次沉積，對(duì)氫氣純度和潔凈度都有一定要求。
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氫氣發(fā)生器制取氫氣的應(yīng)用|電子工業(yè)
更新時(shí)間：2020-08-17
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